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光刻掩膜版中的抗反射層是怎么樣的？小編來(lái)說(shuō)一說(shuō)：

在光刻工藝中，光刻膠的下面是要被刻蝕形成圖案的底層薄膜，假設(shè)這個(gè)底層是反光的，光線很大概率就會(huì)從這個(gè)膜層反射而且會(huì)損害臨近的光刻膠，這個(gè)損害對(duì)線寬控制將會(huì)帶來(lái)不好的影響。鑒于這種現(xiàn)象，我們知道抗反射層涂層有著很強(qiáng)的必要性。

底部的抗反射涂層可以分為兩種：郵寄抗反射涂層、無(wú)機(jī)反射涂層。把這兩者相比較，有機(jī)抗反射涂層反而更容易被去除。頂部的抗反射涂層由于不吸收光，通?？梢允亲鳛橐粋€(gè)透明的薄膜干涉層，通過(guò)光線間的相干相消來(lái)消除反射。