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制作芯片需要幾塊光刻掩膜版

2021-07-28

在制作芯片的過程中，需要經(jīng)過很多次光刻，可能十幾次光刻，甚至幾十次光刻，每進行一次光刻工藝，就需要一塊光刻掩膜版，掩膜版的質(zhì)量將會直接影響...

IC（集成電路）行業(yè)專用光學(xué)掩膜版

2021-07-24

IC（集成電路）行業(yè)專用光學(xué) 掩膜版產(chǎn)品概述：可提供多種尺寸和規(guī)格的IC行業(yè)專用光刻掩模版，提供石英和蘇打3~14 inch的基材光掩模，制作精度覆蓋0....

什么是掩膜版？

2021-07-24

掩膜版，又稱作光刻版、光罩、光掩膜版，英文名稱PHOTOMASK，材質(zhì)有石英玻璃、蘇打玻璃、菲林版等，通過真空鍍膜形成鉻及鉻的氧化物光遮蔽層，再通過...

光刻掩膜版的儲存條件

2021-07-24

掩膜版需要保證表面的清潔度，一般要存放在潔凈室內(nèi)。潔凈室又被稱作無塵室和凈化車間，是指將一定空間范圍內(nèi)空氣中的浮塵、微粒子、細菌等污染物排...

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