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光刻掩膜版的制作最重要的設備就是光刻機，光刻機英文名稱Mask Aligner，又名光刻系統、曝光系統等，它采用激光直寫的方式，在光刻掩膜版上面進行圖形繪制，從而制作出掩膜版。

光刻機是光刻掩膜版制作的核心設備，也是芯片制作的重要設備制造和維護都需要高度的光學和電子工業的基礎，目前光刻機還是國外少數廠家掌握，因此光刻機的價格非常昂貴。